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第一八零章 FinFET工藝

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王岸然無心公司的日常事務(wù),每一項(xiàng)決策都是選擇題,雖然有前世的見識(shí),大部分他可以很容易選出最佳的答案。

不過在人事,銷售,團(tuán)隊(duì)培養(yǎng),金融等各方面,他還是小白的存在。

事實(shí)上王岸然前世一直沒有企業(yè)管理的經(jīng)驗(yàn),雖然混上了AMD的高層,但也僅僅是技術(shù)大拿。

相比於坐在辦公室簽字,他更喜歡留在實(shí)驗(yàn)室內(nèi),解決一個(gè)接著一個(gè)的技術(shù)難題。

此刻,最讓他感興趣的,莫過於芯片製造。

華芯科技的芯片加工廠已經(jīng)進(jìn)行了生產(chǎn)調(diào)試,三條生產(chǎn)線的表現(xiàn)有所差異。

來自東芝的芯片生產(chǎn)線,試生產(chǎn)的良品率就達(dá)到了60%以上,而IBM的生產(chǎn)線,良品率也達(dá)到了40%以上。

技術(shù)人員已經(jīng)嚴(yán)格按操作規(guī)程作業(yè),但要知道,芯片生產(chǎn)幾百道工序,每道工序即便達(dá)到99%的成功率,累計(jì)到300個(gè)指數(shù)等級(jí)下去,良品率將不足0.1%。

所以每一道工序必須保證99.999999……%的準(zhǔn)確率。

可想而知,要保證良品率,得需要付出多大的努力。

在東芝技術(shù)人員的幫助下,對(duì)Intel轉(zhuǎn)讓的金屬鋁物理氣相沉積技術(shù)進(jìn)行改進(jìn),效果出人意料的好。

爲(wèi)此,王岸然還和東芝簽定了補(bǔ)充協(xié)議,以五百萬美元的代價(jià),邀請(qǐng)東芝的技術(shù)人員幫忙消化Intel的技術(shù)。

事實(shí)上,王岸然非常喜歡和東芝這樣的公司打交道,只要有錢,總能在儘可能程度上滿足你的需求,而且不折不扣。

現(xiàn)在的東芝日子可不好過,因爲(wèi)賣給蘇聯(lián)五軸聯(lián)動(dòng)機(jī)牀的事,到現(xiàn)在老美都不願(yuàn)意放過他,東芝的產(chǎn)品在美國是不允許售賣的,要知道這個(gè)時(shí)候的美國,是全世界半導(dǎo)體最大的市場,直接砍斷,對(duì)東芝的影響力可謂空前。

再加上美利堅(jiān)的小弟英格蘭,爲(wèi)了表現(xiàn)自己對(duì)老大的衷心,帶頭對(duì)東芝進(jìn)行封殺,還煽動(dòng)英聯(lián)邦的成員對(duì)東芝進(jìn)行制裁。

一時(shí)間,東芝損失了全球大半的市場,以至於每年的財(cái)報(bào)上都是一長串的赤字。

與華芯科技的合作,總共可是涉及了上億美元,這是大生意,對(duì)現(xiàn)在的東芝而言,尤爲(wèi)重要。

而且金屬鋁連接技術(shù)可是你Intel轉(zhuǎn)讓的,跟東芝可沒關(guān)係,東芝要做的,就是當(dāng)一個(gè)老師,把華芯科技的技術(shù)人員教會(huì)該怎麼使用。

兩家公司一拍即合,順利達(dá)成意向。

當(dāng)然如果這麼簡單,華芯科技這五百萬美元,花的可就有點(diǎn)冤枉了,成套的鋁金屬連接技術(shù),只要花時(shí)間,總能得到解決。

在王岸然的辦公室,東芝的技術(shù)代表橋本龜太郎,鞠躬鞠的王岸然頭暈。

“岸然君,貴方要求的,與東芝公司成立合作研究機(jī)構(gòu),致力於半導(dǎo)體芯片加工中,金屬銅物理氣相沉積PDV的研究,已經(jīng)得到公司的審批,東芝公司非常願(yuàn)意跟華芯公司展開更深入的合作。”

王岸然站起身來,跟橋本龜太郎熱情的握了握手。

這項(xiàng)合作可是花了華芯科技三十四條專利授權(quán),加上1000萬美金的技術(shù)服務(wù)費(fèi)才達(dá)成的。

價(jià)值人民幣上億,貴可能貴了點(diǎn),不過王岸然認(rèn)爲(wèi)有價(jià)值,這就已經(jīng)足夠了。

於此同時(shí),浸入式光刻與雙工臺(tái)的研究也開始進(jìn)入日程,讓王岸然苦惱的是,他找不到合適的技術(shù)帶頭人,所以一直無法推進(jìn)。

不過另一項(xiàng)與浸入式光刻齊名的FinFET生產(chǎn)工藝,王岸然覺的大有可爲(wèi)。

Fin Field_Effect Transistor 鰭式場效應(yīng)晶體管,相比與MOS晶體管而言,這是一款新型的晶體管模式。

是有華人科學(xué)家胡正明教授提出,並建立了系統(tǒng)的數(shù)學(xué)模型。

特點(diǎn)是工藝不變的情況下,可以在相同的面積內(nèi)塞進(jìn)更多的晶體管,而且漏電量和功耗同步大幅度降低。

FinFET技術(shù)在9102年已經(jīng)相當(dāng)成熟,他本是Intel於2011年第一次推出,用於22納米制造工藝上的第三代酷睿處理器上,隨後大部分的半導(dǎo)體廠家開始加入到FinFET工藝陣營當(dāng)中。

技術(shù)難度比起普通的MOS有所提高,工藝上也增加了幾十道光、蝕刻、清洗、填塞、氣相沉積過程。

對(duì)華芯科技而言,技術(shù)難點(diǎn)就是材料的物理氣相沉積PDV技術(shù),以及堆疊薄膜鍍層保護(hù)和蝕刻技術(shù)。

相比沉浸式光刻技術(shù)以及雙工臺(tái)技術(shù)的難度而言,F(xiàn)inFET技術(shù)猶如小學(xué)生的作業(yè)題,在現(xiàn)有的技術(shù)條件下就可以完成。

加上自對(duì)準(zhǔn)雙重成像技術(shù)SADP,一旦得到攻克,王岸然有信心在不調(diào)整硬件的基礎(chǔ)上,實(shí)現(xiàn)800納米制造工藝的突破,並將芯片的集成度達(dá)到320納米制造工藝的程度。

研究課題的確認(rèn),需要理論方面的支持,基於FinFET工藝的BSIM數(shù)學(xué)模型有現(xiàn)實(shí)的指導(dǎo)意義。

9102年,如果說一個(gè)芯片底層硬件邏輯電路工程師,對(duì)BSIM不瞭解,那他肯定是混日子的。

BSIM邏輯電路設(shè)計(jì)模型在基於FinFET工藝中的作用不可替代,王岸然自然不陌生,甚至他可以清晰的記得數(shù)學(xué)模型中每一個(gè)參數(shù)的設(shè)置。

不過就這樣堂而皇之的拿出來,多有不方便之處。

爲(wèi)此王岸然專門成立了FinFET專用研究實(shí)驗(yàn)室,召集了包括季小青、胡效旻、劉赫在內(nèi)的一大幫華芯科技的基幹力量。

“大家很清楚,我們的製造工藝,比起國際上主流的製造工藝落後了兩到三代,比起國外最新的尖端研究,那不知道落後多少代了。

今天我召集大家來到這裡,就是要開展一項(xiàng)FinFET工藝的開發(fā),我可以很自豪的告訴大家,在這方面,我們走到了全世界的前列。”

王岸然的話成功了煽動(dòng)了大家的熱情,對(duì)於大多人人來說,對(duì)Fin並不陌生,關(guān)於場鰭效應(yīng)的論文在國際上並不新鮮。

可以在這項(xiàng)新的理論模型下,進(jìn)行實(shí)際應(yīng)用的研究,也是一件令人振奮的事。

就在王岸然正在埋頭進(jìn)行FinFET工藝模型架構(gòu)的創(chuàng)建之時(shí),一則消息打破了他的平靜。

“王總,德州儀器CEO安德森已經(jīng)抵達(dá)了燕京,他希望就合作事宜,儘快與你進(jìn)行會(huì)面。”

合作!拿技術(shù)來合作啊,華芯科技肯定比你想象中的更有誠意。

王岸然點(diǎn)點(diǎn)頭,對(duì)張磊說道:“聯(lián)繫技術(shù)部,雷總,明天上午九點(diǎn)開會(huì),這次我們要好好討論一下,該要點(diǎn)什麼?”

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