蘇揚看了半秒劉元龍，道：“這些設備，的確是最新的半導體核心設備，尤其是光刻機。”

說著，指著光刻機道：“這臺光刻機裡面的激光器、光束矯正器、能量控制器、光束形狀設置、遮光器、能量探測器、掩模版都是國際最前沿的技術產品。”

蘇揚繼續道：“另外，掩膜臺的運動控制精度達到納米級，物鏡、量臺、曝光臺、內部封閉框架、減振器等物，也都是目前最先進的產品。”

“當然，最主要的還是這臺光刻機的光源，並非是目前國際國內流行的深紫外光。”

“所採用的光是13.5nm的軟X射線，也就是極紫外光作爲光源。”

蘇揚的話音落下。

現場陡然變得一片寂靜。

四名高冷的保鏢們不知所云，作爲退役的軍人，他們對這些科技玩意兒一無所知，完全聽得雲裡霧裡。

但看到半導體公司的人，一個個都瞠目結舌，傻了似的，又覺得boss的話不明覺厲。

短暫的寂靜之後，便是一片譁然，安正國等七人議論紛紛。

“這……”

“採用的是13.5nm的極紫外光？”

“怎麼可能，我前兩天才剛剛看的新聞，尼康公司的光刻機，也纔在準備進發32nm半導體工藝，而光源依舊用的是193nm的深紫外光啊！”

“是啊，曝光波長一下子降到13.5nm，這豈不是意味著……它能夠把光刻技術擴展到32nm以下的特徵尺寸了！！！”

“蘇總，您別不是在逗我們開心啊，現在全球範圍內，絕對沒有任何一家半導體公司，能造出這樣的設備！”

“蘇總，這到底是真是假啊！”

幾名遠揚半導體的高層，一個個都紅著眼眶，把目光不斷在蘇揚和光刻機的身上徘徊。

作爲半導體制造業皇冠上的明珠，光刻機的意義不言而喻。

芯片在生產中需要進行20-30次的光刻，耗時佔到IC生產環節的50%左右，佔芯片生產成本的三分之一。

通常意義上來說，只要解決光刻機的問題，那麼芯片製造的工程，就完結了一半。

因此，也不怪幾個搞半導體的傢伙，像是癡·漢一樣看著他。

蘇揚笑道：“行了，你們也別這樣看我，是真是假，我嘴上說了也沒用，召集人員進行一次實驗，不就一目瞭然了？安總，工廠內應該是有光刻膠和硅片的吧？”

安正國一愣，連忙道：“有，都儲存著呢，我馬上找人來進行實驗。”

說著，安正國立刻召集人手，搬來相應的半導體材料。

半導體芯片生產主要分爲IC設計、IC製造、IC封測三大環節。

所謂IC，就是集成電路的英文簡寫。

IC設計是高端技術，也是inter等公司，能屹立於半導體行業巔峰最重要的因素之一。

主要根據芯片的設計目的，進行邏輯設計和規則制定，並根據設計圖製作掩模，以供後續光刻步驟使用。

而IC製造，就是半導體芯片的製造了。

一般，要實現芯片電路圖從掩模上轉移至硅片上，並實現預定的芯片功能。

包括了光刻、刻蝕、離子注入、薄膜沉積、化學機械研磨等步驟。

至於IC封測，就是完成對芯片的封裝和性能、功能測試，是產品交付前的最後工序。

IC設計就不提了，蘇揚有蘋果A6處理器的技術，其中就包括了32nm芯片的設計。

另外，商城掛著的inter酷睿系列，也有45nm——14nm芯片的工藝技術。

而在IC製造中，光刻又是半導體芯片生產流程中最複雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。

其中的難點和關鍵點，在於將電路圖從掩模上轉移至硅片上。

這一過程，目前只能通過光刻，才能最有效地實現。

所以，光刻的工藝水平，往往直接決定了芯片的製程水平和性能水平。

安正國找來技術人員和材料，在蘇揚的指導下，這些專業生產芯片的員工，初步瞭解到這臺光刻機的使用流程。

光刻的原理，實際上非常簡單。

在硅片表面覆蓋一層具有高度光敏感性的光刻膠，再用光線透過掩模照射在硅片表面。

被光線照射到的光刻膠，會發生反應。

此後，再用特定的溶劑洗去被照射或未被照射的光刻膠，就實現了電路圖從掩模到硅片的轉移。

這和華夏古代的印刷術，實際上有一些相似之處，但光刻技術卻比印刷術難了千萬倍。

一般的光刻步驟，有氣相成底膜、旋轉塗膠、軟烘、曝光、顯影、堅膜。

接著，就是進行檢測，主要是顯影檢測，讓合規的硅片進入後續的蝕刻流程。

所謂蝕刻，便是通過化學或物理的方法，有選擇地從硅片表面，除去不需要材料的過程。

完成之後，就能通過特定溶劑，洗去硅片表面殘餘的光刻膠了。

當然，這是最簡易的光刻步驟，在實際生產製造中，比這複雜了上百倍。

從開始光刻，到最後洗去殘餘的光刻膠，幾個步驟，就足足花了三個多小時。

當然，這裡面也有一些員工剛剛接觸新設備，操作不順手的因素。

當時間來到下午四點半的時候。

車間內，一片驚喜和歡騰的景象。

“出來了，居然真的做出來了！”

“60nm的電路圖，居然真的被我們轉移到了硅片上。”

“不可思議啊！全華夏能做60nm芯片的企業，不超過三家，而且全是在18年下半年纔剛剛突破的技術，還是在實驗室裡！做到量產的話，得到今年年底，甚至是明年年初去了。”

“是啊，而我們現在，卻擁有了一臺可以量產60nm芯片的光刻機，如果操作熟練了，速度提上去，再進行交替光刻，一天至少可以造上數百片12寸的圓晶啊！”

“這是一個突破，了不起的突破，如果我們把這裡發生的事情，宣佈出去，足以震驚整個華夏，乃至是中央都要被驚動！”

華夏在半導體行業，被壓了太多年了。

從上個世紀以來，就一直跟在西方國家的屁股後面跑，說是向人家乞討技術也不爲過。

雖然60nm芯片的量產，和45nm芯片的量產，還有一定的差距。

但是，在工藝水平上，也能證明華夏沒比inter等落後太多了。

這是一個十分漲士氣的突破。

一旁，劉元龍沉聲道：“各位，你們難道沒有意識到嗎？剛纔我們用的，只是這臺光刻機最底線的精度！”

這話一出，幾名興奮的傢伙，立刻止住了話音，轉而張了張嘴巴，眼睛立刻掙得大大的。

“是啊，剛纔用的還是最低的精度！”

“沒錯，往上一個刻度的話，豈不是意味著……45nm甚至32nm的芯片也有可能了？”

“不對，我之前看過一篇學術報告，EUV光刻技術的真正領域，是32nm，不，是22nm以下的領域！”

“22nm以下，這……這也太瘋狂了吧。”

“……”